单一些比较好，就比如PCE10、P3HT、PCE11、PCBM这些。名字简单就容易被其他人记忆，也容易得到同行们的认可。
此外，ITIC的体系，和3DPDI体系不同，这种ADA分子的最优器件加工条件，不需要退火后处理，也不需要溶剂添加剂，只需要正常的喷涂即可，非常的简单，很“干净”。
而且，正常旋涂出来的器件性能要比喷涂法制备的器件低2左右，仅为8.33，如果其他人不知道喷涂这个技巧，就会比较难以重复出来这个结果。
第二，基于IDTICIN4F/4Cl/DM这些结构，性能相较于IDTICIN，4F和DM体系有所提高，幅度也不算小，从6.22分别提升到了8.92和8.06，而4Cl体系反而略微降低，至5.77。
第三，学妹的H3x体系，也就是在BDT单元上引入氟原子后，器件的性能并没有提高，反而略微降低。
根据现有的文献，从统计学上来看，BDT上引入氟原子，性能提升的概率大概在20左右，当然的想法是虽然这个概率不高，但也值得尝试，现在扑街了，也没什么大不了的。
因为哪怕是扑街的材料，和ITIC结合，器件性能也有8.72，最后拿出来水一篇ACSAMI还是没什么问题的。
第四，博后学姐的FNICIN体系，被许秋简称为FNIC，效率最高可达9.64，最优的匹配给体为窄带隙的PCE10，而非宽带隙的H22系列。
许秋推断可能是分子共轭长度延长，光吸收范围会向近红外的方向移动，以至于和窄带隙的材料形成互补的光吸收。
他顺手让模拟实验人员测了一个光吸收光谱，得以验证，IDTICIN、ITIC、FNIC的共轭长度分别为5、7、9，光吸收的范围大致各为550750、600800、650850，也就是共轭长度每提高2，光吸收大约红移50纳米。
除了得出了四个结论外，许秋还顺便想出了接下来的优化方向。
第一优先级，合成IDTTICIN4F、IDTTICINDM和FNICIN4F，分别被他简称为IT4F、ITDM和FN4F。
第二优先级，合成单氟、单甲基取代的ICINF，ICINM单元，单氯取代的结构合成出来意义不大。这样做既可以发文章，又可以明晰引入杂原子、甲基的数量对器件性能的影响。很多时候虽然能够大概猜测到变化趋势，但没有把材料合成出来，再经过测试，那就只是猜测而已。
第三优先级，侧链修饰，使用噻吩侧链以及苯环间位连接己基的侧链取代ITIC体系中苯环对位连接己基的侧链。
和当初冲刺效率的时候不同，那时候是新结构，达到多少多少的标准，差不多就是什么档次的文章，比如8就是二区，10就是一区。
现在对于这些新工作来说，相当于同属一个类似的结构，器件的效率只要保持在一定数值以上，不一定每次都取得效率突破，只要把故事讲得好听，也能够发表不差的文章，比如AM这样顶刊级别的文章。
当然，想要发表更好文章，比如《自然》主刊、大子刊级别的，还是要把效率做上去，至少也要打破现有的效率记录。
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