研发了这么多年了，自然是有其过人之处。
而且华兴集团公司现在已经掌握了半导体产业最核心的技术，自然也是有底气进行合作的。
而且这些公司也是十分乐意跟华兴集团公司进行合作，为华兴集团公司开发各种高阶的光刻掩膜光罩。
现在国内成了全世界最大的芯片生产基地，这几家光罩厂自然对兔子国国内的半导体市场十分重视，丰创集团公司还在潭州市这边建设了最高等级的光罩厂，专门为中晶微、华越电子公司、华晶集团公司、天马科技公司等公司高端的光罩。
华兴集团公司现在正在研发极紫外光光刻机，自然也是跟丰创集团公司有过接触，希望他们能够研发出极紫外光光刻掩膜的光罩。
极紫外光光刻机光刻的时候使用镜面反射光而不是用透镜折射光，所以采用的光掩膜版也需要改成反射型，改用覆盖在基体上的硅和钼层来制作，同时因为极紫外光光刻机因为制程工艺极高，对光掩膜版的准确度、精密度、复杂度要求比以往更高。
当前制作掩膜版普遍使用的可变形状电子束设备，其写入时间成为最大的挑战，解决方案之一是采用多束电子束设备，这就需要这些生产制造电子束设备的公司开发相关多束电子束产品。
也是因为极紫外光光源破坏性太大，就算是丰创集团公司能够光刻掩膜，但是华兴集团公司也必须要研发出光掩膜的保护层薄膜，阻隔外界污染的实体屏障，可以防止微尘或挥发气体污染光掩膜表面，减少光掩膜使用时的清洁和检验。
而且这些薄膜的对光源的透射率太差的话，会大大地影响到光刻机的产量，如果光刻机的每个小时的晶圆吞吐量过低的话也是杨杰不能忍受的。
为了达到这些设计目标，华兴集团公司还有大量的研发要去做，没有个五六年的功夫这些技术是无法成熟起来的。